Nieuws

Op het gebied van precisiemetingen en instrumentatie is de Optical Glass Line Ruler uitgegroeid tot een baanbrekend hulpmiddel dat de grenzen van nauwkeurigheid en betrouwbaarheid verlegt. Dit innovatieve apparaat maakt gebruik van de ongeëvenaarde helderheid en maatvastheid van optisch glas om een ​​liniaal te creëren die nieuwe normen stelt voor lineariteit, herhaalbaarheid en duurzaamheid.

Op het gebied van optische beeldvormingssystemen is de nauwkeurige beoordeling van het oplossend vermogen van een instrument van het grootste belang. Om aan deze behoefte te voldoen, bedacht de Amerikaanse luchtmacht (USAF) in 1951 een baanbrekend instrument onder de MIL-STD-150A-standaard: de USAF Resolution Test Chart uit 1951. Dit microscopische testapparaat met optische resolutie is sindsdien een alomtegenwoordige maatstaf geworden voor het evalueren van de helderheid en het vastleggen van details van verschillende beeldvormingssystemen.

Op het gebied van optische precisiemetrologie zijn Computer-Generated Hologrammen (CGH) uitgegroeid tot krachtige hulpmiddelen voor het testen en meten van complexe optische oppervlakken. Onder deze hebben CGH-cilindernullen veel aandacht gekregen vanwege hun vermogen om cilindrische oppervlakken nauwkeurig te evalueren. Dit artikel onderzoekt de principes, het ontwerp en de toepassingen van CGH-cilindernullen, waarbij de nadruk wordt gelegd op hun rol bij het bevorderen van optische testmogelijkheden.

Computer-gegenereerde hologrammen (CGH) hebben een revolutie teweeggebracht op het gebied van optisch testen, vooral bij het meten van asferische oppervlakken. Van de verschillende CGH-technieken spelen CGH-nulcorrectoren een cruciale rol bij het garanderen van hoge nauwkeurigheid en betrouwbaarheid. Dit artikel gaat in op de principes, ontwerpoverwegingen en toepassingen van CGH-nulcorrectors, waarbij de nadruk wordt gelegd op hun betekenis bij optische precisietests.

Fotomaskers, ook wel eenvoudigweg maskers genoemd, zijn essentiële hulpmiddelen bij de productie van geïntegreerde schakelingen (IC's) of 'chips'. Deze ondoorzichtige platen met transparante gebieden waardoor licht in een gedefinieerd patroon kan schijnen, spelen een cruciale rol in het fotolithografieproces, een van de belangrijkste stappen bij de productie van halfgeleiders. In dit artikel zullen we onderzoeken hoe fotomaskers worden gebruikt bij de productie van IC's.

In de wereld van de halfgeleiderproductie spelen fotomaskers en reticles een cruciale rol bij de productie van geïntegreerde schakelingen (IC's). Hoewel deze termen vaak door elkaar worden gebruikt, verwijzen ze feitelijk naar afzonderlijke componenten met specifieke functies. Het begrijpen van het verschil tussen een fotomasker en een dradenkruis is essentieel voor iedereen die betrokken is bij de micro-elektronica-industrie.