Nieuws uit de sector

Filmfotomaskers spelen een cruciale rol in de moderne optische productie, halfgeleiderpatronen, PCB-ontwikkeling en verschillende microfabricageprocessen. Ze dienen als zeer nauwkeurige patroondragers, waardoor nauwkeurige, op licht gebaseerde beeldvorming of etsen op verschillende substraten mogelijk is. In dit artikel leg ik uit hoe een Film Photomask werkt, waarom het belangrijk is en welke technische parameters onze oplossingen van Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd. betrouwbaar maken. Een duidelijke structuur, gemakkelijk leesbare taal en professionele diepgang worden overal behouden.

In het snel evoluerende veld van de optische metrologie zijn CGH-cilindernullen uitgegroeid tot onmisbare hulpmiddelen voor het nauwkeurig testen en kalibreren van cilindrische en asferische oppervlakken. Door complexe mechanische opstellingen te vervangen door computergegenereerde holografie (CGH), maken deze nulcorrectors uiterst nauwkeurige oppervlakteverificatie mogelijk in hoogwaardige optische systemen zoals telescopen, cameralenzen en halfgeleiderinspectie-instrumenten. Dit artikel onderzoekt hoe, waarom en wat CGH-cilindernulls van cruciaal belang maakt voor industrieën die op zoek zijn naar sub-micronnauwkeurigheid en kosteneffectieve testoplossingen, terwijl ook de professionele uitmuntendheid van Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd., een toonaangevende fabrikant op dit gebied, wordt benadrukt.

CGH Null Correctors (Computer-Generated Hologram Null Correctors) zijn geavanceerde optische testapparaten die worden gebruikt voor het meten en corrigeren van aberraties in optische precisiesystemen, zoals asferische en freeform-lenzen of spiegels.

Film Photomask is een moederplaat die wordt gebruikt voor de productie van wafers van geïntegreerde schakelingen en die relevante informatie bevat over de ontwerplay-out van de geïntegreerde schakelingen. Bij het productieproces van wafels wordt het patroon op het filmfotomasker overgebracht op het belichte substraatmateriaal via een reeks processen, zoals fotoresistcoating, belichting en ontwikkeling om patroonoverdracht te bereiken.

Een fotomasker, ook wel lichtmasker, fotomasker of fotolithografiemasker genoemd, is een hoofdpatroon dat wordt gebruikt in het fotolithografieproces bij de productie van micro-elektronica. Hieronder volgt een gedetailleerde introductie ervan:

Als reactie op de tariefaanpassing door de Verenigde Staten moet de optische industrie multidimensionale strategische maatregelen nemen om de kostendruk te compenseren, marktaandeel te behouden en industriële modernisering te bevorderen. Hieronder volgt de specifieke strategieanalyse: